產品參數:
型號 | TS-VPR10轉鼓等離子體表面處理設備 |
頻率 |
40KHz |
功率 |
300W |
工藝氣體 |
兩路(可自由搭配,氧氣氬氣等) |
滾筒尺寸 |
φ200*300(mm) 圓形 |
真空腔體尺寸 |
φ230*340(mm) 圓形 |
真空度 |
1-10Pa |
流量計 |
0-500mL/min |
控制系統 |
PLC+觸摸屏 |
外形尺寸 |
700D*564H*900Wmm |
轉鼓等離子體處理設備視頻展示:
轉鼓等離子體處理設備產品簡介:
本機采用轉鼓結構設計,只需將產品填充入轉鼓,并放入真空腔即可,轉筒可確保所有產品得到均勻的等離子體處理。可以另配一個轉筒,可以在處理過程中裝載,并在當前批次處理完畢后,替換之前使用的轉筒,提升工作效率。
1.真空腔采用不銹鋼材質制成;
2.等離子電源放電模式為電極棒與腔體生成電場產生等離子體;
3.腔體為固定腔體,絲網滾筒插入腔體,將絲網滾筒卡孔對準腔體后部 插銷卡扣位,由后部電機帶動進行旋轉;
4. 真空腔體后端接真空接頭,連接到真空泵,進行腔體真空抽取;
5.絲網滾筒的轉速、通入氣體的配方、處理時間等參數可針對不同材料、 產品進行相應調整。
低溫等離子體中大多數粒子的能量均高于常見化學鍵的鍵能(除離子0~2eV外),因此低溫等離子體技術可以將粉體表面的原有化學鍵打開,生成新的化學鍵,從而達到對粉體表面改性的目的。低溫等離子體技術對粉體進行處理可在粉體表面引入活性基團或形成保護膜,從而達到改善粉體分散性、相容性、力學性能等多項性能。該技術具有工藝簡單、效率高、連續性強、無溶劑、環境污染小等優點。